等離子體清洗的原理與超聲波不同，當艙內接近真空時(shí)，打開(kāi)射頻電源，此時(shí)氣體分子電離，產(chǎn)生等離子體，伴隨輝光放電現象，等離子體在電場(chǎng)作用下加速，從而在電場(chǎng)作用下高速運動(dòng)，對物體表面造成物理碰撞。等離子體的能量足以去除各種污染物，氧離子可以將有機污染物氧化成二氧化碳和水蒸氣排出艙外。
等離子清洗不需要其他原料，只需空氣即可滿(mǎn)足要求，使用方便無(wú)污染，
同時(shí)，它比超聲波清洗更多的優(yōu)勢在于，等離子體不僅可以清洗表面，更重要的是可以提高表面活性，等離子體與物體表面的化學(xué)反應可以產(chǎn)生活性化學(xué)基團，這些化學(xué)基團活性高，應用范圍廣，如提高材料表面的粘附能力，提高焊接能力、結合能力、親水性等諸多方面，因此等離子體清洗成為清洗行業(yè)的主流和趨勢。
