提起
真空等離子清洗機,它不分處理對象,可處理不同的基材,無(wú)論是金屬、半導體、氧化物還是高分子材料都可用等離子體很好地處理,因此,特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進(jìn)行部分清洗。那么,關(guān)于它的清洗過(guò)程是怎樣的呢?今天小編就來(lái)說(shuō)說(shuō)吧
真空等離子清洗機整個(gè)清洗過(guò)程大致如下:
1、被清洗的工件送入真空式并加以固定,啟動(dòng)運行裝置,開(kāi)始排氣,使真空室內的真空程度達到10Pa左右的標準真空度。一般排氣時(shí)間大約需要幾分鐘。
2、向真空室內引入等離子清洗用的氣體,并保持腔內壓強穩定。根據清洗材質(zhì)的不同,可分別使用氧氣、氬氣、氫氣、氮氣、四氟化碳等氣體。
3、在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過(guò)輝光放電而發(fā)生等離子化和產(chǎn)生等離子體,讓在真空室產(chǎn)生的等離子體*籠罩住被處理工件,開(kāi)始清洗作業(yè),一般清洗處理持續幾十秒到幾十分鐘不等。
4、清洗完畢后切斷電源,并通過(guò)真空泵將氣體和氣化的污垢抽走排出。
上述就是小編對于真空等離子清洗機的清洗過(guò)程的介紹!相信大家應該已經(jīng)有所了解了,今天小編就給大家介紹這么多,如果大家還有什么不明白,小編會(huì )隨時(shí)為您解答!